2017年4月21日

日本KOFLOC 可程式全自動氣體混合儀

日本KOFLOC 可程式全自動氣體混合儀

  • 內建KOFLOC高精度MFC質量流量控制器
  • 8吋彩色觸控螢幕,操作容易
  • 可直接設定各氣體百分比即可自動計算混合所需流量
  • 可程式控制,最多可設定9段控制
  • 具網路功能,可遠端控制
  • 可記錄流量資訊,並透過USB下載
  • 具緊急停止按鍵,可即時中斷氣體,並可設定流量與壓力上下限自動停止
  • 各功能可設定操作權限及密碼
  • 可記錄各氣體累積流量,方便計算鋼瓶殘餘量
規格

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2017年3月9日

英國LINKAM CSS 450 顯微鏡流變儀

英國LINKAM CSS 450 顯微鏡流變儀

  • 可安裝於穿透、反射顯微鏡、拉曼、SAXS等光學儀器上使用
  • 將樣品置於兩片光學鏡片間,利用鏡片的旋轉觀察樣品的剪切變化
  • 可精準控制溫度、旋轉的速度、鏡片間距
  • 可設定三種旋轉量測方式:oscillatory, step, steady
  • 適用複雜流體微結構研究,如二元流體粗化、粗化、 高分子聚合研究、液晶缺陷動力學研究、血球細胞凝集研究等

英國LINKAM LTS 450 顯微鏡流變儀
  • 溫度範圍:-50 ~ 450℃(室溫以下需選購液態氮冷卻系統)
  • 升降溫速率:0.01 ~ 30 k/min
  • 樣品面積:∅30mm
  • 量測間距:5 ~ 2500um
  • 剪切率:0.003 ~ 7500/s
  • 溫度穩定度:<0 .2="" li="">


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2017年3月8日

德國NETZSCH 奈米鍍層熱傳量測儀

德國NETZSCH 奈米鍍層熱傳量測儀
日本產業技術綜合研究所開發,採用高速雷射量測,最薄可量測至10nm鍍層,為奈米鍍層熱擴散最佳分析利器

採用皮、奈秒雷射thermoreflectance量測原理,突破雷射閃光法熱擴散量測限制
  • 傳統閃光法使用IR偵測器,無法記錄足夠微小及快速的溫度變化訊號,因而無法量測太薄的樣品。thermoreflectance法則使用奈秒或皮秒雷射進行量測,雷射在樣品表面反射後,會隨樣品表面溫度變化而改變反射的強度,因而可用來快速記錄樣品表面極小與極快的溫度變化

內建兩種量測模式,可依底材特性選擇
  • RF法:與laser flash閃光法量測方式相同,適於透光底材的鍍層量測。RF法為由底材端施以一脈衝雷射對鍍層加熱,並從鍍層端以奈秒或皮秒雷射測量鍍層表面的溫度變化
  • FF法:適於不透光底材鍍層測量。由鍍層表面施以一脈衝雷射加熱,並對同一位置以奈秒或皮秒雷射量測鍍層表面的溫度變化


NanoTR 奈秒雷射熱擴散量測儀

1. 適用鍍層厚度
RF法
  • 金屬鍍層:1 ~ 20um
  • 陶瓷鍍層:300nm ~ 5um
  • 有機材鍍層:30nm ~ 2um
FF法
  • 鍍層厚度需大於1um
2. 量測時間:小於60秒
3. 樣品大小:10x10 ~ 20x20mm,總厚度需小於1mm
PicoTR皮秒雷射熱擴散量測儀

1. 適用鍍層厚度
RF法
  • 金屬鍍層:100 ~ 900nm
  • 陶瓷鍍層:10nm ~ 300nm
  • 有機材鍍層:10nm ~ 100nm
FF法
  • 鍍層厚度需大於100nm
2. 量測時間:小於5分鐘
3. 樣品大小:10x10 ~ 20x20mm,總厚度需小於1mm
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2017年3月7日

【TAITEC】日系恆溫振盪器 高振速時桌面零振動感



NEW 振盪技術指標產品 DWMAX
振盪時安靜 不晃動 樣品無死角
96孔盤、微管與離心管適用
產品特點
1.多處理組試驗的救星
2.獨家NewMax drive振盪設計
3.符合GLP/GCP之IQ及OQ驗證
產品應用
1.少量多樣品數之微生物培養
2.DNA萃取或ELISA試驗
3.應用96孔盤進行反應者
4.GC-MC樣品前處理
由上圖可知,菌體濃度皆明顯高於錐形瓶組,顯示應用Taitec DWMax進行振盪培養效果,能有效加速酵母菌生長並可應用於96孔盤之培養,節省實驗資源與減少非人為誤差。


於96孔盤內進行酵母菌振盪培養9小時後,採樣各盤之菌液進行OD值分析。可見4盤菌體吸光值幾近相似,顯示組內無誤差。印證應用DWMax於96孔盤進行試驗的高度準確性。
其他相關產品
離心式濃縮機 96孔盤適用

產品簡介

1.為紅外線加熱系統,提高乾燥效率
2.內膽塗佈鐵氟龍, 具強耐腐蝕性
3.溫度: RT+5~65℃; 轉速:100~2600 r/min
4.適用1.5/2.0mL微管、15/50mL離心管、試管與96孔盤。
5.可進行真空解除時之氮氣充填
組織、細胞破碎機

產品簡介

1.利用高振盪頻率短時間內完成樣品破碎

2.無須購入特殊容器 (1.5/2/5 mL離心管適用)

3.搭配特殊之保冷夾具, 即可於低溫下進行研磨

4.操作簡單, 具掀蓋自動停機之安全防護設計

5.單次可破碎12個樣品
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日本HORIBA micro-XRF元素掃描成像儀

日本HORIBA micro-XRF元素掃描成像儀
日本HORIBA micro-XRF能在不破壞樣品下,以10µm微聚焦X光束掃描樣品,獲取掃描面積內的元素成分與含量訊號及對X光穿透強度的訊號,並可以不同的顏色呈現掃描面積內元素分布圖與X光穿透影像。
專利10µm X光聚焦導管
可將X光聚焦至10µm,針對微小的區域測量元素,並可在元素面積掃描時提供最佳的成像解析度
100X放大CCD鏡頭
可透過電腦螢幕直接觀看,確認測量位置。並可直接點選要檢測的位置,樣品會自動移動至定位


大樣品室,樣品不需裁切破壞
真空設計,感度最佳
450 x 500 x 80mm大樣品室空間,下潛式艙門,樣品擺放容易。
樣品室可抽真空,提高偵測感度。若需測量粉體或液體,也可獨立抽光學室真空,避免樣品室污染


Smart元素掃描成像
同步X光穿透影像
XGT-7200V可設定範圍進行掃描,掃描完成後可呈現各元素的分布圖,並可計算掃描面積內各元素的含量
可於元素面積掃描成像時,同步成像X光穿透影像,輔助分析研究


SDD高感度偵測器
友善導引操作介面
採用新一代高感度SDD偵測器,大幅提升偵測感度,免液態氮
智慧導引操作介面,操作容易

日本HORIBA XGT-7200V µXRF元素掃描成像儀 規格: 元素範圍:Na ~ U
X光聚焦尺寸:𝟇10、100µm(可軟體切換)
最大掃描面積:10 x 10 cm
樣品室尺寸:450 x 500 x 80 mm



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2017年3月3日

奈米級熱膨脹分析儀

德國NETZSCH 奈米級熱膨脹分析儀


德國NETZSCH熱分析第一品牌推出世界第一台採用奈米級光學莫列波紋位移偵測器,能提供全範圍高解析度長度變化偵測,薄片樣品亦可精準測量

最強性能 無與倫比
  • 位移偵測解析度最高0.1nm(依機種而定),可檢測極小之長度變化量
  • 樣品初始長度自動偵測,降低誤差
  • 接觸力可數位程控,並可偵測實際施力大小,避免摩擦力影響
  • 提供-180 ~ 2000℃多種溫度範圍爐體
  • 可同時搭載兩種爐體
  • 可抽真空、通氣氛
  • 可升級雙桿偵測,同時量測兩個樣品
  • 自動調整樣品位置,取得最佳量測狀態

NanoEye 奈米級光學位移偵測器
  • 傳統熱膨脹量測設備採用LVDT位移偵測器,因設計上的限制,樣品長度與標準品長度差異在20%以內才能維持較佳的偵測精度,太長或太短的樣品變會產生較大的誤差,所以在樣品製備上有很大的限制。而部分產品採用傳統光學感測器則有解析度不高的缺點,無法提供高精度的測量。NETZSCH DIL 402 Expedis系列採用最新Moiré Pattern位移感測器,全測量範圍均可提供最高解析度,不受樣品與標準品長度差異影響,解析度依機種最高可達0.1nm,一次解決薄片、低膨脹率樣品不易量測的問題。
  • 最高3N的數位施力控制,並具有施力感測器,可即時監控並控制實際施力大小。傳統熱膨脹設備僅透過彈簧調整施力,無法確實得知每個樣品的受力是否相同,容易造成測量誤差。NETZSCH DIL 402 Expedis的自動施力控制設計,亦可抵銷樣品與載台間的摩擦力,量測樣品真正的膨脹收縮率。
  • 施力可程控,高階機種具多種施力模式,可模擬DMA分析

提供多種溫度範圍爐體
  • 提供-180 ~500℃、-150 ~ 1000℃、RT~1150℃、RT~1600℃、RT~2000℃不同溫度段爐體選擇,使用者可依預算及應用選擇適合之爐體
  • 可同時安裝兩個爐體,擴展溫度範圍或可增快測量速度

真空及氣氛控制
  • 真空爐體設計,依搭配之真空幫浦最高可至10^-4mbar
  • 內建一組MFC質量流量控制器,最多可擴充為3組

樣品位置自動調整及初始長度自動測量
  • 獨特的樣品位置自動調整功能,在擺放樣品後,推桿會自動推擠樣品,調整至最佳量測位置,避免因樣品擺放不良影響測試
  • 放置樣品後,可自動記錄樣品初始長度,確保量測之初始長度為啟始溫度下之長度值,避免膨脹率計算產生誤差
  • 熱電偶可調整測量位置,確實控制樣品溫度

偵測室熱盾系統
  • 熱盾系統可使偵測室保持恆溫,避免環境或爐體溫度擾動造成測量誤差

彩色資訊顯示,遠端APP監測
  • 儀器具有彩色屏幕,可顯示儀器狀態
  • 可下載手機APP,進行遠端監測,不需守候在儀器旁即可即時得知儀器狀態,並設有遠端異常通知及緊急停止功能




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